高性能 金属測定モニター「FIAMO」に、オプションを追加

半導体製造の歩留まり向上に貢献 「セミコンジャパン2005」で、デモンストレーションを実施

株式会社フィアモ 2005年11月24日

金属自動測定装置のテクノロジー・リーダーである 株式会社フィアモは、最新モニタリング・システム「FIAMO」に、3つの機能をオプションとして追加しました。「FIAMO」は、半導体やウエハ製造の洗浄工程で、不良品の発生要因ともなっている高純度薬液中の微量金属不純物を、リアルタイムで測定する画期的な薬液管理モニターです。

 金属自動測定装置のテクノロジー・リーダーである 株式会社フィアモ(東京都渋谷区、代表取締役社長:斎藤正)は、最新モニタリング・システム「FIAMO」に、3つの機能をオプションとして追加し、販売を開始したことを発表します。「FIAMO」は、半導体やウエハ製造の洗浄工程で、不良品の発生要因ともなっている高純度薬液中の微量金属不純物を、リアルタイムで測定する画期的な薬液管理モニターです。今回開発したオプションは、「希釈装置」「マルチサンプラー」「多槽管理ソフト」で、いずれも半導体メーカーが目指す、工程管理・品質管理・不良品発生防止による歩留まりの向上を後押しします。
なお、「セミコン・ジャパン 2005」(主催:SEMI、会期:12月7日-9日、会場:幕張メッセ、ブース:6A-211)において、機能が充実した「FIAMO」を展示するとともに、同システムのデモンストレーションを実施します。

 「FIAMO」は、独自の化学分析技術を持つ当社と、岡山大学・本水昌司教授との共同研究により開発され、同教授の考案したフローインジェクション分析(flow injection analysis:FIA)法を基本技術としています。2004年には東北大学・大見忠弘教授との共同研究を開始、国内半導体メーカーでもサンプル評価を積極的に実施しており、今回販売を開始したオプションも市場のニーズに対応した製品開発の成果です。同モニター本体の販売は、2005年4月から開始しており、既に大手ウエハメーカーや半導体メーカーに対して、複数台の導入実績があります。

不良品の発生を最小限に抑え、環境対策にも大きく貢献

 現在、半導体製造プロセスでは、微細化による洗浄薬液の高純度化と、新材料導入による新たな薬液の使用が進んだことで、洗浄工程のコストが増える一方、洗浄廃液による環境汚染対策も求められています。同システムでは、従来無かった薬液中の金属汚染のオンラインによる連続自動管理を簡便かつ低コストで実現し、不良品の発生を最小限に抑え、環境対策にも大きく貢献します。今回、同モニターに希釈装置を追加したことで、これまで困難だった高純度薬液中の金属不純物の検出が可能となるほか、マルチサンプラーの設置により、複数の同一薬液槽のモニタリング、単一洗浄装置内の異種薬液の複数モニタリングが可能となりました。さらに、多槽管理ソフトを併用することで、複数の洗浄槽で収集した様々な種類のデータ管理が容易となり、工程の向上、品質の向上の施策策定へ早急に対応することができます。

 当社では、今後も市場ニーズに対応した製品を常に提供できるよう、金属や薬液の測定対象を広げた研究開発を進めてまいります。従来の金属不純物の測定のみならず、半導体産業の発展に貢献する、複合的なオンライン連続自動測定モニターの実現・実用化を目指す方針です。

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