物理気相成長法

用語の解説

物理気相成長法とは

(ブツリキソウセイチョウホウ,Physical Vapor Deposition,PVD,)
物理気相成長法とは、物質の表面に金属の薄膜を生成する手法のうち、物理的効果により被膜を生成する手法のことである。
物理気相成長法では、圧力が低い状態である「高真空」の中で、物質を気体のように原子や分子レベルで動ける状態(気相)にする。 その中で金属原子同士をぶつけ、目的とする金属を物質の表面に付着させていき、金属の薄膜の層を形成していく。 物理気相成長法は、ICチップへ被膜する場合などによく用いられている。 具体的な物理気相成長法の技術としては、スパッタ法(スパッタリング)などを挙げることができる。 なお、物理気相成長法以外の気相成長法としては、化学反応を利用して被膜の生成を行う化学気相成長法(CVD)がある。

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