大日本印刷、産総研の「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」に参画

半導体製造技術に持続可能な視点を取り入れ、技術の高度化を進める指標構築を目指す

大日本印刷株式会社（本社:東京　代表取締役社長:北島義斉　以下:DNP）は、国立研究開発法人 産業技術総合研究所（以下:産総研）が策定・公開した「次世代コンピューティング基盤戦略」＊1を受けて新設された「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」に、当初メンバーの1社として参画します。
本検討会は、半導体製品の大規模生産の実現やより高い性能の追求に加え、半導体に関連する資源消費量を最小化する視点での付加価値を示す新たな指標の構築を目指すものです。開設時のメンバーとして、企業7社、東京工業大学、産総研で活動を開始します。

＊1 産総研のニュースリリースはこちらをご覧ください → (リンク »)

【「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」について】
産総研が次世代コンピューティング基盤開発拠点の活動の一環として、益一哉 東京工業大学学長と金山敏彦 産総研特別顧問を共同座長として、大学、企業の有識者、国立研究開発法人 新エネルギー産業技術総合開発機構 技術戦略研究センターおよび産総研をメンバーとして設置した「次世代コンピューティング戦略会議」において3つの戦略が定められました。その1つである「グリーンサステナブル半導体製造技術の体系的構築」は、製造に関する指標をカーボンフットプリントから、グリーンサステナブル半導体製造へ拡張するために、グリーンサステナブルの視点を取り入れながら技術の高度化を進める指標の構築を目指すものです。半導体製造産業に大規模生産・高性能追求に加えて、持続的な発展に必要な方向性を与え、資源消費最小化の視点から新たな付加価値を示すことで、ゲームチェンジの端緒とすることが示されています。この目標の達成にむけた産学官の取り組みの起点として「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」が設置されました。

【本検討会へのDNPの参画について】
DNPは1950年代に、半導体製造時に光や電子ビームで基板に回路パターンを形成する独自のリソグラフィ技術を活かして、回路パターンの原版である「フォトマスク」の製造を開始しました。2003年からは、微細な回路パターンをテンプレートから基材に圧着させて形成するナノインプリントリソグラフィ（Nano-Imprint Lithography：NIL）の開発にも注力しています。2021年には、DNP、キヤノン株式会社、キオクシア株式会社の3社が協力して開発したナノインプリントリソグラフィにおいて、半導体製造における露光工程の消費電力を従来手法の約1/10に抑制できることを発表しました。この技術によって、消費電力を抑制しながら、最先端半導体で求められるナノメートル＊2レベルのパターン転写を実現しています。DNPはこのNIL技術を、半導体製造時の負荷・コストの削減とカーボンニュートラルの実現の両立につながる、業界全体に有用な技術であると捉えており、今回、本検討会の開設時メンバーとして参画しました。
＊2 ナノメートル（nm）は10億分の1メートル

【今後の展開】
DNPは、半導体製品の微細化や製造時消費電力の削減など、幅広いテーマで取り組んできた研究開発の知見を「グリーンサステナブル半導体製造技術検討会」に提供していきます。また、社会の多様な領域に広がる半導体活用のニーズを先取りし、ナノレベルの先端技術の強みを軸として、さまざまな技術・ソリューションを開発・提供していきます。

＊DNPのナノインプリントリソグラフィ（NIL）の詳細についてはこちら→
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