サンフランシスコ発--Intelは、45nm製造プロセスを使用した同社初のチップ量産施設を45日後にオープンさせることを予定している。
Fab 32と呼ばれるこの施設は、アリゾナ州チャンドラーに建造された新施設だとIntelの広報担当者であるNick Knupffer氏は当地で開催中のVMworldカンファレンスでのインタビューで語った。Intelのほとんどの現行チップは65nmの回路エレメントが使用できるプロセスによって製造されているが、新しい45nmプロセスを使用すると同じ面積のシリコンウエハにより多くの回路を集積できる。
Intelは現在45nmのプロセッサをオレゴン州のD1D施設で製造しているが、Fab 32が量産施設となる。
IntelのライバルであるAdvanced Micro Devices（AMD）はプロセッサの製造を65nmプロセスへ移行し始めたばかりだ。
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