ライカマイクロシステムズが、臨界点乾燥装置 ライカEM CPD300に関するセミナーを開催!

ライカ マイクロシステムズ株式会社 2014年06月13日

From Digital PR Platform


ライカ マイクロシステムズ株式会社(社長:上野 隆、東京都新宿区)は、走査電子顕微鏡の前処理である臨界点乾燥に関する、最新アプリケーションと運用に必要な基礎知識を、ライカ EM CPD300の実機を用いて、わかりやすくご案内するセミナーを6月26日(水)に開催します。また、高圧ガスにつき実際の運用や申請に関する講義も行います。同時に、SEM前処理コーター ライカ EM ACE600に関する最新アプリケーションのご紹介とワークショップを行います。
これから電子顕微鏡試料作成の実験を始める方はもちろん、すでに実験されている方にも日ごろの疑問点の解決の場としてもご活用いただけます。奮ってご参加ください。


【セミナー内容】
■ 最新の臨界乾燥装置の紹介とアプリケーション情報について
■ 高圧ガスの取扱いについて(運用に必要な実際の規制とその申請)
■ SEM前処理コーター ライカ EM ACE600の最新アプリケーションとワークショップ
■ ライカ EM CPD300 実機見学
■ エクスペリエンスラボ見学会

【開催日時・場所】

2014年6月25日(水) 13:00 - 17:30
ライカマイクロシステムズ(株)  エクスペリエンスラボ
東京都新宿区高田馬場1-29-9
         Tel: 03-6758-5640
  無料
       研究者の方(有職者、学生)、ユーザーの方
     同業者様、代理店様のお申し込みはご遠慮いただいております。

お申込みはこちらから
(リンク »)

関連情報へのリンク »

本プレスリリースは発表元企業よりご投稿いただいた情報を掲載しております。
お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。

【企業の皆様へ】企業情報を掲載・登録するには?

御社の企業情報・プレスリリース・イベント情報・製品情報などを登録するには、企業情報センターサービスへのお申し込みをいただく必要がございます。詳しくは以下のページをご覧ください。

このサイトでは、利用状況の把握や広告配信などのために、Cookieなどを使用してアクセスデータを取得・利用しています。 これ以降ページを遷移した場合、Cookieなどの設定や使用に同意したことになります。
Cookieなどの設定や使用の詳細、オプトアウトについては詳細をご覧ください。
[ 閉じる ]