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【パロアルト(米カリフォルニア州)2017年6月8日PR Newswire=共同通信JBN】OneD Materialは、新しい日本の特許(JP 6142362( (リンク ») )を付与されたと発表した。この特許は、同社の高エネルギー密度リチウムイオン電池向け革新的シリコングラファイト活性材料であるSiNANOde(TM)を製造するための新しい組成と改良された製造プロセスをカバーするものである。
この新規に付与された特許は、Nanosys(OneDの前身会社)が設立され、ハーバード、バークレー両大学からいくつかの基礎的なナノテクノロジーの発明の独占的なライセンスを受けた2001年から始まった長い旅の中の重要なマイルストーンである。
その後の数年間、NanosysのR&Dチームは、燃料電池とリチウムイオン電池電極向けの新たなナノ構造について取り組み、電極に使用されるシリコン・ナノワイヤとグラファイト材料の相互接続されたネットワークを説明する独創的な特許を出願した(例えば、WO 2006/062947( (リンク ») )および WO 2007/061945( (リンク ») )、それぞれ2004年と2005年に提出された出願に基づく)。
OneDの最高技術責任者(CTO)のイミン・ジュー博士の指導の下に、さまざまなシリコングラファイト材料と製造プロセスが長年にをかけて完成され、世界中の大手バッテリー・メーカーによりテストされた。
2013年遅く、OneD MaterialはNanosysからそのR&Dチーム、施設、パイロット生産ライン、およびナノワイヤ関連のすべての知的財産を取得、ディスプレイ向け量子ドットの商業化に専念し、この市場におけるグローバルリーダーになった。
2014年、OneDの顧客EaglePicherは米国防総省のTitle 3 Awardを受賞、OneDの製造プロセスのライセンスを得て、ミズーリ州ジョプリンに最近完成した10万平方フィートの製造施設でSiNANOde(TM)を生産している。
OneDはイノベーションの開発を継続しており、そのR&D取り組みを次の4つの主要な目的に焦点を合わせている。(1)SiNANOde(TM)の容量保持力をより長いサイクル数で向上させる(2)より高いシリコン/グラファイト比率でSiNANOde(TM)のエネルギー密度を増加する(3)SiNANOde(TM)の製造コストを低減する(4)より大きな生産規模拡大を可能にし、コンシューマーエレクトロニクスおよびEV市場セグメントに供給しているバッテリー・メーカーの将来のニーズに対応する。
新たに付与された特許は、R&D取り組みの結果最近申請した特許出願ポートフォリオの一部であり、OneDとその顧客を今後20年間保護することになる(例えばWO 2013/016339 (
(リンク ») を参照)
OneDのビンセント・プルビネージュ最高経営責任者(CEO)は「われわれは、高エネルギー密度リチウムイオン電池向けシリコングラファイト活性材料の生産のため、世界中の業界パートナーと今後も協力していくことを楽しみにしている」と語った。
詳細はウェブサイトwww.onedmaterial.com 参照。
ソース:OneD Material, LLC
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