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昭和電工、電子材料用高純度ガス事業強化のため上海第二工場建設を決定

Showa Denko K.K.

From: JCN Newswire

2020-01-08 11:30


TOKYO, Jan 8, 2020 - ( JCN Newswire ) - 昭和電工株式会社(社長:森川 宏平)は、電子材料用高純度ガス事業強化のため、上海にある製造拠点 上海昭和電子化学材料有限公司(以下、 「SSE」 ) の隣接地に第二工場用地を取得*し、 高純度 N2O(亜酸化窒素)および高純度 C4F8(オクタフルオロシクロブタン)の製造設備と、 高圧ガス危険物倉庫を建設することを決定いたしました。第二工場の稼働は2021年下半期を予定します。

高純度 N2O は主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度 C4F8は主 にその酸化膜の微細加工(エッチング)などに使用される特殊ガスです。第5世代移動通信(5G) など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により、中国においては今後も半導体 およびディスプレイ市場(有機ELテレビ等)の拡大が見込まれます。

当社は現在、高純度 N2Oは川崎事業所と韓国で、高純度 C4F8は川崎事業所と上海(SSE 第 一工場)で生産していますが、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため、“地産 地消”施策をさらに進めます。また中国において年々化学品への規制が強化される中、中国上海 に自社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することは、サプライチェーンの強化、競争力の 向上に大きく寄与します。当社の持つ製造・品質管理技術を組み合わせ、お客様に最適な供給体 制を整えることで、さらに事業を強化してまいります。

SSE第二工場の概要)

面積:約10,000平米

建設予定設備:
高純度N2O 年産能力1,000トン
高純度C4F8 年産能力 600トン
高圧ガス危険物倉庫

稼働開始予定:2021年下半期

また、半導体市場は、台湾でも同様に拡大が見込まれるため、当社の現地製造子会社「台湾昭 和化学品製造股份有限公司」においても高純度 C4F8 年産 150 トンの製造設備を新設いたします (2020年春稼働予定)。今回の投資額は、上海・台湾を合わせ、約30億円です。

当社グループは、個性派企業(収益性と安定性を高レベルで維持できる個性派事業の連合体) の実現をVision(目指す姿)としており、電子材料用高純度ガス事業は当社の個性派事業の一つ です。今後も品揃え・供給体制を充実させていくことで、世界の電子材料市場の拡大に対応し、さらなる事業競争力・収益性向上を図ってまいります。

*用地取得:50年間の土地使用権の取得

本リリースの詳細は下記URLをご参照ください。
(リンク »)

概要:昭和電工株式会社

詳細は www.sdk.co.jp をご覧ください。

本件に関するお問合せ先:
昭和電工株式会社
広報室 03-5470-3235
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