AsiaNet 90628
アトナープ、革新的な新しい計測プラットフォーム、アストンを発表
～半導体製造プロセスにおける歩留まり、スループット、効率の向上を実現～
東京, 本日7月15日 /PRNewswire/ -- 半導体、ヘルスケア、製薬業界向けの分子センシングおよび診断機器製品のメーカーであるアトナープ株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長：スリーダル·マーシー·プラカッシュ）は、誘導結合プラズマイオン源を搭載した革新的なin-situリアルタイム半導体計測プラットフォーム、ASTON ( (リンク ») ) を発表しました。
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ASTONは、In-Situで分子レベルのプロセス制御を可能にしたことによって半導体製造プロセス計測に大きな変革をもたらし、工場の効率的な運用を実現させることが可能です。半導体製造プロセスモニタリングを行うことをベースに構築された堅牢なプラットフォームであるASTONは、これまで必要とされていた複数の計測機器を置き換え、リソグラフィ、絶縁体，High-k，Low-k材料や金属のエッチング，成膜、チャンバークリーニング、チャンバーマッチング、などプロセス工程の削減を含む、総合的かつ効率的なプロセスモニタリング及び制御を提供します。
ASTONを活用することで、特定のプロセスにおけるスループットが40%を超える改善が見られました。「一般的に半導体の製造，生産において、工場全体でのスループットを1%改善することによって、年間数千万ドル増収したことと同等の効果を得ることができます」とアトナープのCEO／CTOであり、創業者のスリーダル·マーシー·プラカッシュ氏は述べています。
「生産性を向上するために新しい生産設備を導入するのは最大約1年かかるのに比べ、既存の生産工程ツールにASTONを追加し、わずか6〜8週間以内でスループットを向上させることができます」「これは、メーカーが生産レベルを上げ、現在の半導体工場における生産容量不足の対応に大いに役立ちます。」とスリーダル·マーシー·プラカッシュ氏は述べています
プロセスのエンドポイント検出（EPD）は、工場を運営し、半導体製造装置を的確に運用するための最も効率的な方法です。しかし現在利用されているセンサー類は過酷な半導体プロセスにさらされることによる劣化や堆積物によって、多くの工程段階で長期間使用することができませんでした。これまで、半導体製造ではプロセス経過時間を測定することによってプロセスの完了を判断していました。ASTONは、チャンバークリーニングを含むプロセスが終了する正確なタイミングを検出することで生産工程を最適化し、必要なプロセス，洗浄時間を最大80%短縮できます。
ASTONは腐食性ガスおよびガス状汚染物質の凝縮に対して耐久性があります。従来の電子イオン化イオン源とフィラメントレスの誘導結合プラズマイオン源という独立した二種類のイオン源を搭載しているため、既存のソリューションよりも堅牢で、半導体製造でよく見られる過酷な条件下で確実に動作します。これにより、従来の電子イオン化イオン源が腐食し、非常に急激に使用不可になる厳しい環境でも、ASTONをリアルタイムに使用することができるのです。
ASTONは、従来のマス・アナライザと比較して最大で100倍長いメンテナンス・サービスの間隔を提供します。ASTONは工程中に発生した凝縮物を除去するセルフ・クリーニング機能を含んでいます。
プラズマ発光分析法の一つには，プロセスプラズマからの発光を検出するものがあります．これは，例えば熱ＣＶＤプロセスなどプラズマを利用しないプロセスではモニタリング，分析が不可能です．ASTONは独自にプラズマイオン源を有することにより，パルス放電プロセス，熱ＣＶＤプロセス，熱 ALDプロセス，発光分析がしにくい金属CVDプロセスなどのモニタリングに最適です。
また、ASTONは、リアルタイムに定量化されたデータを，プロセスアプリケーションのための人工知能(AI)のマシン・ラーニングによって処理し、プロセスの一貫性を向上させます。高精度および高感度で繰り返し行われるリアルタイムデータとプロセス・チャンバー管理の統計分析によって，製品の歩留まりを向上します。
ASTONは主に化学蒸着(CVD)およびエッチング用途での使用を目的としています．どちらのプロセスも年間13%以上使用量が増えています。ASTON製造プロセス装置の中に装着するか、または既に作動している既存の装置に追加して取り付けることが可能です。
ASTONはまた、ATI Koreaが開発したインテリジェントな圧力コントローラであるPsiと組み合わせて使用することができます。包括的な、数ヶ月にわたる技術的なフィージビリティ・評価テストを受けた後、このソリューションは、最近、高度なプロセス制御アプリケーションのためSamsungに導入された実績があります。
ASTONの、評価や購入については、AtonarpまたはAtonarpのグローバルパートナーネットワーク ( (リンク ») ) のいずれかを通じて、問合せすることが可能になりました。
アトナープについて
アトナープは、ライフサイエンス、製薬業界、半導体市場向けの分子センシングと診断のデジタルトランスフォーメーションをリードしています。一体化されたソフトウェアプラットフォームと、光学および質量分析計技術の画期的な革新を支えるアトナープ製品は、リアルタイムで、実用性のある包括的な分子プロファイリングデータを提供します。世界クラスの半導体、ライフサイエンス、健康診断機器の開発と製品化の専門家チームが率いるアトナープは、日本、米国、インドで事業を展開しています。詳細については アトナープ ( (リンク ») ) のウェブサイトを参照してください。
連絡先： Cynthia Hoye, embedded PR, Phone: +1 408-858-2602 / E-mail: ch@embedded-pr.com
（日本語リリース：クライアント提供）
アトナープ、革新的な新しい計測プラットフォーム、アストンを発表
～半導体製造プロセスにおける歩留まり、スループット、効率の向上を実現～
東京, 本日7月15日 /PRNewswire/ -- 半導体、ヘルスケア、製薬業界向けの分子センシングおよび診断機器製品のメーカーであるアトナープ株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長：スリーダル·マーシー·プラカッシュ）は、誘導結合プラズマイオン源を搭載した革新的なin-situリアルタイム半導体計測プラットフォーム、ASTON ( (リンク ») ) を発表しました。
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ASTONは、In-Situで分子レベルのプロセス制御を可能にしたことによって半導体製造プロセス計測に大きな変革をもたらし、工場の効率的な運用を実現させることが可能です。半導体製造プロセスモニタリングを行うことをベースに構築された堅牢なプラットフォームであるASTONは、これまで必要とされていた複数の計測機器を置き換え、リソグラフィ、絶縁体，High-k，Low-k材料や金属のエッチング，成膜、チャンバークリーニング、チャンバーマッチング、などプロセス工程の削減を含む、総合的かつ効率的なプロセスモニタリング及び制御を提供します。
ASTONを活用することで、特定のプロセスにおけるスループットが40%を超える改善が見られました。「一般的に半導体の製造，生産において、工場全体でのスループットを1%改善することによって、年間数千万ドル増収したことと同等の効果を得ることができます」とアトナープのCEO／CTOであり、創業者のスリーダル·マーシー·プラカッシュ氏は述べています。
「生産性を向上するために新しい生産設備を導入するのは最大約1年かかるのに比べ、既存の生産工程ツールにASTONを追加し、わずか6〜8週間以内でスループットを向上させることができます」「これは、メーカーが生産レベルを上げ、現在の半導体工場における生産容量不足の対応に大いに役立ちます。」とスリーダル·マーシー·プラカッシュ氏は述べています
プロセスのエンドポイント検出（EPD）は、工場を運営し、半導体製造装置を的確に運用するための最も効率的な方法です。しかし現在利用されているセンサー類は過酷な半導体プロセスにさらされることによる劣化や堆積物によって、多くの工程段階で長期間使用することができませんでした。これまで、半導体製造ではプロセス経過時間を測定することによってプロセスの完了を判断していました。ASTONは、チャンバークリーニングを含むプロセスが終了する正確なタイミングを検出することで生産工程を最適化し、必要なプロセス，洗浄時間を最大80%短縮できます。
ASTONは腐食性ガスおよびガス状汚染物質の凝縮に対して耐久性があります。従来の電子イオン化イオン源とフィラメントレスの誘導結合プラズマイオン源という独立した二種類のイオン源を搭載しているため、既存のソリューションよりも堅牢で、半導体製造でよく見られる過酷な条件下で確実に動作します。これにより、従来の電子イオン化イオン源が腐食し、非常に急激に使用不可になる厳しい環境でも、ASTONをリアルタイムに使用することができるのです。
ASTONは、従来のマス・アナライザと比較して最大で100倍長いメンテナンス・サービスの間隔を提供します。ASTONは工程中に発生した凝縮物を除去するセルフ・クリーニング機能を含んでいます。
プラズマ発光分析法の一つには，プロセスプラズマからの発光を検出するものがあります．これは，例えば熱ＣＶＤプロセスなどプラズマを利用しないプロセスではモニタリング，分析が不可能です．ASTONは独自にプラズマイオン源を有することにより，パルス放電プロセス，熱ＣＶＤプロセス，熱 ALDプロセス，発光分析がしにくい金属CVDプロセスなどのモニタリングに最適です。
また、ASTONは、リアルタイムに定量化されたデータを，プロセスアプリケーションのための人工知能(AI)のマシン・ラーニングによって処理し、プロセスの一貫性を向上させます。高精度および高感度で繰り返し行われるリアルタイムデータとプロセス・チャンバー管理の統計分析によって，製品の歩留まりを向上します。
ASTONは主に化学蒸着(CVD)およびエッチング用途での使用を目的としています．どちらのプロセスも年間13%以上使用量が増えています。ASTON製造プロセス装置の中に装着するか、または既に作動している既存の装置に追加して取り付けることが可能です。
ASTONはまた、ATI Koreaが開発したインテリジェントな圧力コントローラであるPsiと組み合わせて使用することができます。包括的な、数ヶ月にわたる技術的なフィージビリティ・評価テストを受けた後、このソリューションは、最近、高度なプロセス制御アプリケーションのためSamsungに導入された実績があります。
ASTONの、評価や購入については、AtonarpまたはAtonarpのグローバルパートナーネットワーク ( (リンク ») ) のいずれかを通じて、問合せすることが可能になりました。
アトナープについて
アトナープは、ライフサイエンス、製薬業界、半導体市場向けの分子センシングと診断のデジタルトランスフォーメーションをリードしています。一体化されたソフトウェアプラットフォームと、光学および質量分析計技術の画期的な革新を支えるアトナープ製品は、リアルタイムで、実用性のある包括的な分子プロファイリングデータを提供します。世界クラスの半導体、ライフサイエンス、健康診断機器の開発と製品化の専門家チームが率いるアトナープは、日本、米国、インドで事業を展開しています。詳細については アトナープ ( (リンク ») ) のウェブサイトを参照してください。
連絡先： Cynthia Hoye, embedded PR, Phone: +1 408-858-2602 / E-mail: ch@embedded-pr.com
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お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。
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