関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏 にご講演をいただきます。
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる高感度化フォトレジスト材料での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「高感度フォトレジスト」講座を開講いたします。
高感度化フォトレジスト材料入門セミナー,化学増幅型レジストからメタルレジストまで、それらの基礎・ 材料設計・開発・評価まで幅広く解説！
本講座は、2023年07月31日開講を予定いたします。
詳細： (リンク »)
[画像1: (リンク ») ]
Live配信・WEBセミナー講習会 概要
テーマ：高感度化フォトレジスト材料の入門
～化学増幅型レジストからメタルレジストまでの基礎から・ 材料の設計と開発・評価～
開催日時：2023年07月31日(月) 13:30-17:00
参 加 費：39,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ： (リンク »)
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）
セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
・レジストシステムとレジスト材料について
・化学増幅型レジストシステムについて
・極端紫外線（EUV）レジストについて
・メタルレジストについて
・最先端のレジスト材料の課題について
本セミナーの受講形式
WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。
株式会社AndTechについて
[画像2: (リンク ») ]
化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
(リンク »)
株式会社AndTech 技術講習会一覧
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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
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株式会社AndTech 書籍一覧
[画像4: (リンク ») ]
選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
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株式会社AndTech コンサルティングサービス
[画像5: (リンク ») ]
経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
(リンク »)
本件に関するお問い合わせ
株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）
下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）
講演主旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化してきた。前半は、その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について、基礎的な原理を交えて解説する。続いて、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説し、レジスト材料の基礎的な評価方法から、新規なレジスト材料の開発方法について解説する。さらに後半では、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料（分子レジスト、非化学増幅型レジスト、メタルレジスト）について解説する。
プログラム
1.レジスト材料(基礎)
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料(基礎)
2.1 合成方法
2.2 評価方法
3.ネガ型レジスト材料(基礎)
3.1 合成方法
3.2 評価方法
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
4.1 合成方法
4.2 評価方法
5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)
6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)
【質疑応答】
＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以 上
プレスリリース提供：PR TIMES (リンク »)
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高感度化フォトレジスト材料入門セミナー,化学増幅型レジストからメタルレジストまで、それらの基礎・ 材料設計・開発・評価まで幅広く解説！
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開催日時：2023年07月31日(月) 13:30-17:00
参 加 費：39,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
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セミナー講習会内容構成
ープログラム・講師ー
関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 工藤 宏人 氏
本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
・レジストシステムとレジスト材料について
・化学増幅型レジストシステムについて
・極端紫外線（EUV）レジストについて
・メタルレジストについて
・最先端のレジスト材料の課題について
本セミナーの受講形式
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弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
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講演主旨
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化してきた。前半は、その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について、基礎的な原理を交えて解説する。続いて、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説し、レジスト材料の基礎的な評価方法から、新規なレジスト材料の開発方法について解説する。さらに後半では、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料（分子レジスト、非化学増幅型レジスト、メタルレジスト）について解説する。
プログラム
1.レジスト材料(基礎)
1.1 原理
1.2 合成例
1.3 最新の化学増幅型
2.ポジ型レジスト材料(基礎)
2.1 合成方法
2.2 評価方法
3.ネガ型レジスト材料(基礎)
3.1 合成方法
3.2 評価方法
4.高分子レジスト材料と低分子レジスト(基礎と応用)
4.1 合成方法
4.2 評価方法
5.EUVレジスト材料の評価方法と開発方法の実例(基礎と応用)
6.最新型レジスト材料(メタルレジスト、EB、EUV用レジスト材料)(応用と発展)
【質疑応答】
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以 上
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本プレスリリースは発表元企業よりご投稿いただいた情報を掲載しております。
お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。
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