インテルは、2004年に300mmウエハを使った90ナノメートルプロセスでの量産を行っている。この新プロセスは、旧来の200mmウエハを使った0.13ミクロンプロセスの4倍ユニット数を増やした。また、新工場を多数建設するより、既存の工場を修繕して使う方向に転換しつつある。
インテルに関する、その他の調査結果を以下に述べる。
・4つの90ナノメートルプロセス工場と2つの65ナノメートルプロセス工場で、2005年末までに1A-32と1A-64より高容量の製品を量産する方針である。その結果、インテルはチップセットの様な製品を、90ナノメートルプロセス製品に切り替えるだろう。
・インテルは、デスクトップやモバイル、サーバープラットフォームに搭載されたデュアルコアプロセッサ製品が出荷されたら、2H05の新容量モデルに取り組むだろう。デュアルコアプロセッサへの切替えは、プロセステクノロジが90ナノメートル以上に移行するにつれて、増加する漏洩電流問題に依存している。
インスタット/MDR社の調査レポート「インテルのマイクロプロセッサ予測―生産能力とダイコスト」は、インテルの製品と製造戦略、及び1A-32と1A-64マイクロプロセッサの高容量の効果について検証している。
◆調査レポート
インテルのマイクロプロセッサ予測―生産能力とダイコスト
(リンク »)
◆インスタット/MDR社について
(リンク »)
◆このプレスリリースに関するお問合せ
株式会社データリソース
107-0052 東京都港区赤坂4-5-6
Tel:03-3582-2531 Fax:03-3582-2861
(リンク »)
Eメール:info@dri.co.jp
お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。