「【第4回サイエンス・サロン】～次世代グリーンパワー技術における最先端研究～」を開催します(Zoomによるオンライン開催)。

2023年3月22日(水）、23日（木）、「【第4回サイエンス・サロン】～次世代グリーンパワー技術における最先端研究～」を開催いたします(Zoomによるオンライン開催)。ぜひご参加くださいませ。
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【開催趣旨】
持続可能な社会の実現のために、産業界には再生可能なエネルギー活用をはじめ、エネルギー利用の効率をさらに高める技術が求められています。
中でも、パワーデバイスは自動車や産業機器、電力、鉄道、家電などさまざまな電気機器に使用されているため、カーボンニュートラルの実現に当たっては省電力化が極めて重要です。
今回のセミナーでは、次世代パワーデバイス材料の開発、及びこれらを活用した応用技術など最新の研究成果をご紹介いたします。

本セミナーは国際産学連携オープンイノベーションの推進の一環として、英語で実施いたします。

【日程】
2023年3月22日(水）、23日（木）　10:00-17:30

【事前登録】
Zoomによるオンラインセミナー
事前登録を以下の通りお願いいたします。
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【参加費】
無料

【全体プログラム】

■　3月22日（水）セッション1　10:00-17:30
10:00-10:10　オープニング　主催者挨拶
10:10-11:00　基調講演　「酸化物半導体の課題」
　　　　　　　東京工業大学　細野秀雄　名誉教授・特命教授
11:00-11:45　講演1　「次世代パワーMOSFETのためのゲートスタック形成技術」
　　　　　　 東京大学　大学院新領域創成科学研究科　喜多　浩之　教授
11:45-12:30　講演2　「SiCパワーデバイスのための高温耐熱実装技術」
　　　　　　　 早稲田大学　大学院情報生産システム研究科　巽　宏平　教授
14:00-14:45　講演3　「ダイヤモンドパワー半導体研究の現状」
　　　　　　　佐賀大学　理工学研究科　嘉数　誠　教授
14:45-15:30　講演4「SiC　MOS　界面の物理」
　　　　　　　 富山県立大学　工学部　電気電子工学科　畠山　哲夫　　教授
16:00-16:45　講演5「半導体産業を牽引する結晶イノベーション」
　　　　大阪大学　大学院工学研究科　森　勇介　教授
16:45-17:30　講演6「プロトン注入によるSiCデバイス信頼性向上」
　　　　　　　 名古屋工業大学　大学院工学研究科　加藤　正史　准教授

■　3月22日（水)　セッション2　10:00-17:30
※オープニングと基調講演はセッション１のZOOMウェブナーでご視聴ください。
11:00-11:45　　講演1「GaN系青色面発光レーザーの開発」
　　　　　 名城大学　理工学部材料機能工学科　竹内　哲也　教授
11:45-12:30　　講演2「自己始動モード同期を実現する超短パルスファイバーレーザー」
　　　　 埼玉大学　大学院理工学研究科　塩田　達俊　准教授
14:00-14:45　　講演3「レーザーテレビ、プロジェクターなどの液晶技術に向けた液晶素子の高速化の開発」
　　　　　　　　山口東京理科大学　工学部　高頭　孝毅　教授
14:45-15:30 　講演4「ホログラム技術融合による応用商品開発」
　　　　　　福建師範大学　堀米　秀嘉　教授
15:30-16:45　　休憩
16:45-17:30　　講演5「液晶配向界面アンカリング制御技術と液晶ディスプレイ応用」
　　　　　　　　長岡技術科学大学　電気電子情報系　木村　宗弘　教授

■　3月23日（木）　セッション3　10:00-17:30
10:00-10:45　　講演1「低電力メモリ応用を目指したHZO系強誘電体デバイス」
　　　　 東京大学　大学院工学系研究科電気系工学専攻　高木　信一　教授
10:45-11:30　　講演2「カーボンニュートラル×Beyond5G/6Gに向けたメタマテリアル」
　　　　　　　　 東北大学　大学院工学研究科　金森　義明　教授
11:30-12:15　　講演3「次世代CMPのための先進シミュレーション技術」
　　　　　　 中央大学　理工学部　鈴木　教和　教授
14:00-14:45　　講演4「WBGデバイスを用いた次世代パワーモジュール/ユニット技術」
　　　　　東北大学　国際集積エレクトロニクス研究開発センター　高橋　良和　教授
14:45-15:30　　講演5「酸化物半導体薄膜トランジスタの現状と将来展望」
　　　　　　　 高知工科大学　環境理工学群　古田　守　教授
16:00-16:45　　講演6「金属酸化物薄膜トランジスタの劣化現象と高信頼性化技術」
　　　　　 奈良先端科学技術大学院大学　物質創成科学研究科　浦岡　行治　教授
16:45-17:30　　講演7「表面活性化接合の常温ヘテロインテグレーションへの適用」
　　　　　　明星大学　須賀　唯知　教授
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【主催】
株式会社キャンパスクリエイト（電気通信大学TLO）

【会社概要】
株式会社キャンパスクリエイトは、「お客様の課題解決をオープンイノベーションで実践する広域TLO」をスローガンに、国立大学法人電気通信大学TLOとして経済産業省・文部科学省の承認・認定TLOを受けるとともに、企業様の技術ニーズに対して解決可能な大学研究者を全国から探索する、あるいは大学の技術シーズに対して活用可能な企業様を探索しマッチングする産学官連携マッチング業務を実施しています。また、企業様のオープンイノベーション支援として、企業様が関心を持っている技術分野において活用可能な大学の技術シーズを調査し、報告・ディスカッションを行いながら新規事業のテーマを固めていくコンサルティング業務などを行っています。
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プレスリリース提供：PR TIMES (リンク »)