リソグラフィー装置の市場規模、2031年に491億米ドル到達予測

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「リソグラフィー装置の世界市場：市場規模、シェア、動向分析レポート - タイプ別、用途別、技術別、パッケージングプラットフォーム別、地域別展望と予測、2024年～2031年」（KBV Research）の販売を12月16日より開始いたしました。

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リソグラフィー装置の市場規模は、2024年からCAGR8.9%で成長し、2031年には491億米ドルに達すると予測されています。

KrFステッパーは、ArF液浸またはスキャナーで実現可能な超微細な機能が必要とされない用途に適した、248nmの波長で中程度の解像度のパターン形成に対する需要によって牽引されています。そのため、KrFステッパーセグメントは2023年に市場の14%の収益シェアを獲得しました。KrFリソグラフィーは、パワーエレクトロニクスや特定の集積回路、特に自動車や産業用アプリケーションで使用されるものの製造に頻繁に採用されています。IoTデバイス、電力管理、自動車用エレクトロニクスに対する需要の拡大は、性能とコスト効率のバランスを必要とするKrFステッパーの継続的な使用を支えています。

5G技術は世界的に急速に進歩しており、高速かつ低遅延のデータ伝送をサポートする半導体が求められています。EUVおよびDUVリソグラフィーを使用して製造されたチップは、5GおよびIoTや自律システムなどの関連アプリケーションに必要な電力密度と性能の基準を満たしています。そのため、半導体メーカーはこれらの高まる需要に対応するためにEUVおよびDUVリソグラフィー装置に多額の投資を行い、市場の成長を促進しています。さらに、モノのインターネット（IoT）革命は、新たな接続時代の幕開けとなりました。半導体は、産業用センサー、スマート家電、ヘルスケア監視システムなど、さまざまな機器におけるデータのリアルタイム処理と伝送に不可欠です。この傾向により、これらの高性能基準を満たすことができる高度なリソグラフィー装置への依存が高まっています。したがって、これらの要因が市場の成長を促進しています。

しかし、中小企業にとっては、このような高額な機器の購入は財務的に負担となり、効果的な競争力を制限する要因となります。その結果、参入障壁が生じ、市場の成長が鈍化し、小規模なプレーヤーによるイノベーションが制限されることになります。初期投資後も、EUVマシンは最適なパフォーマンスを確保するために高度な訓練を受けた専門家による定期的なメンテナンスと継続的な技術サポートを必要とするため、メンテナンスコストも高額になります。そのため、購入とメンテナンスのコストを合わせると、大きな財務負担となり、潜在的な市場参加者の多くが参入を断念し、リソグラフィー装置市場の成長が鈍化しています。

タイプ別見通し

タイプ別では、市場は深紫外線（DUV）と極紫外線（EUV）に分けられます。極紫外線（EUV）セグメントは、2023年には市場の22%の収益シェアを占めました。EUVリソグラフィーは、より微細な解像度の回路の製造を可能にし、小型化と処理能力が重要な人工知能、5G、高性能コンピューティングなどの分野におけるイノベーションを支えています。EUVシステムはDUVよりも高価で技術的に複雑ですが、最先端技術をサポートし、厳しい性能要件を満たす能力が、その採用を促進しています。



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