QuantumClean(R)とChemTrace(R)がSEMICON Japan 2017に出展

Quantum Global Technologies, LLC

From: 共同通信PRワイヤー

2017-12-04 14:00

QuantumClean(R)とChemTrace(R)がSEMICON Japan 2017に出展

AsiaNet 71351 (1946)

【クエーカータウン(米ペンシルベニア州)2017年12月2日PR Newswire=共同通信JBN】
*Validated Ultra-High Purity. Maximum Productivity.(TM)

Quantum Global Technologies傘下の企業であるQuantumClean( (リンク ») )とChemTrace( (リンク ») )は、東京ビッグサイトで12月13-15日に開催されるSEMICON Japan 2017に出展する(ブース5728)。

スコット・ニコラス社長兼CEO(最高経営責任者)は「われわれの半導体洗浄・コーティングおよび解析試験センターは、われわれの顧客が所有コストを削減するのを支援する。解析的に検証された超清浄な部品は、より迅速なチェンバーリカバリーとより長期のMean Time Between Cleans(平均クリーン間隔)をもたらす。最適化された洗浄法と独自の再コーティング技術は部品の寿命を延長する。迅速な部品の納期は在庫費用を削減する。われわれは、公認ラボのChemTraceからの解析証明書によって検証された超高純度のチェンバー部品洗浄を提供する唯一の企業である」と説明する。

Logo - (リンク »)

販売ディレクターのサージャニー・ラッセル氏は「ChemTraceは厳格な品質保証基準の下で活動し、単独でISO 17025の認証を得ている。われわれは2018年に、チェンバー部品、ウエハー、クリーンルーム資材、超高純度ウエハー、高純度・複合化学物質に関する半導体プロセス関連のマイクロコンタミネーション解析の実施25周年を迎える」と語る。

同社は、同社のサービスオファリングが重要なプロセスチェンバー製造の課題を解決することによって、いかに貴社の事業を改善することができるかを知るため、QuantumCleanとChemTraceのブースを訪れることを歓迎する。

▽Quantum Global Technologies(R), LLCについて
ChemTrace(R)とQuantumClean(R)は、米ペンシルベニア州フィラデルフィア郊外に本社を構えるQuantum Global Technologies, LLC傘下の企業である。

QuantumCleanは、半導体ウエハー製造、OEMおよびOPM業界向けのサブ10nm委託プロセスツール・チェンバー部品の洗浄およびコーティングサービス、ツール部品の寿命延長、プロセスツール部品の最適化ソリューションの世界的リーダーである。

2000年に創設されたQuantumCleanは、業界標準を上回るprocess improvement through consistently cleaner parts(R)を顧客に提供することを前提に構築された革新的なAdvanced Technology Cleaning Centers(R)を運営している。これらのソリューションは、顧客の総所有コストを大幅に削減する。8カ国にある18カ所の施設で1500人を雇用するQuantumCleanは、世界中で卓越した洗浄能力と利便性を提供している。
(リンク »)

ChemTraceは25年近くにわたり、プロセスツール・チェンバー部品洗浄の有効性に関する独立した解析的検証を提供してきた。半導体、ソーラーおよび関連業界向けの優れた参照解析試験ラボとして認められているChemTraceは、FAB、OEMおよびOPMの重要な洗浄課題および要件に応えるソリューションを保有している。3カ国にある5カ所のラボで100人以上を雇用するChemTraceは、卓越したマイクロコンタミネーション解析を提供する。 (リンク »)

▽報道関係問い合わせ先
QuantumClean: Meg Cox, +1-215-892-9300, info@quantumclean.com

ChemTrace: Robin Puri, +1-503-251-0979, info@chemtrace.com

QuantumClean、ChemTrace、Advanced Technology Cleaning Centers、ATCC、Process Improvement through Consistently Cleaner Parts、Single Part Chemical CleanおよびSPCCは、全てQuantum Global Technologies, LLCの登録商標である。

ACS、Atomically Clean Surfaces、Alternative TWAS、Analytical & Engineering Services、C-Coat、Cleancoat、Cleaning, Coating & Testing Center of Excellence、Environmentally Clean Process、ECP、Final Surface Finish、FSF、QGT、M-Coat、PartSmart、PT(3)、QualClean、Selective Deposition Removal、SDR、Service Request form、SRF、Solution Based Chemistry、TechBriefs、The Perfect Order、The Perfect Qual、The Perfect Process Transfer、Tight-Coat、V-Clean、VeriClean、Waterless Acid、Y-Coat、Z-Coat、Smart, Lean, Clean and Green、Center of ExcellenceおよびValidated Ultra-High Purity. Maximum Productivityは、全てQuantum Global Technologies, LLCの商標である。

ソース:Quantum Global Technologies, LLC

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