半導体化学気相成長（CVD）装置の市場規模、2030年に75億米ドル到達予測

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「半導体化学気相成長（CVD）装置の市場規模、シェア、動向分析レポート：製品タイプ別、用途別、地域別、セグメント別予測、2024～2030年」（Grand View Research, Inc.）の販売を8月26日より開始いたしました。

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半導体化学気相成長（CVD）装置の市場規模は、2024年からCAGR7.7%を記録し、2030年には75億米ドルに達すると予測されています。マイクロエレクトロニクスおよび半導体デバイスの需要急増、半導体業界の技術進歩、AIプログラムやAI駆動電子機器における半導体材料の消費増加が市場成長に寄与しています。

世界的な先端センサーの需要拡大は、半導体化学気相成長（CVD）装置市場の主な牽引要因です。薄膜製造用の優れた固体材料を製造するためにCVD技術を活用することが、この成長をさらに促進します。さらに、マイクロエレクトロニクスや民生用電子機器に対するニーズの高まりと、ファウンドリ、集積デバイス製造（IDM）、メモリ製造などの多様な用途での幅広い利用が、市場の成長に大きく貢献しています。

近年、同市場では、さまざまなIDM（Integrated Device Manufacturer）が競争力強化のために多くの取り組みを行っています。例えば、Canadian Photonics Fabrication Centre（CPFC）は、商用化前のフォトニクスデバイス、製造サービス、フォトニクス集積回路メーカー向けのサービスを提供しています。CPFCは、設計とモデリング、エピタキシー、製造、テストと特性評価を含む有料サービスを提供しています。特にガリウムヒ素（GaAs）およびインジウムリン（InP）ベースのデバイスをターゲットとしています。

中国を中心とした電子・半導体産業の急速な発展が、アジア太平洋地域の市場成長に拍車をかけています。中国やインドなどの新興国は、大幅な工業化が進んでおり、最終用途産業や企業の数が増加しています。拡大する経済と急成長するエレクトロニクス産業の存在は、2030年までの間、同地域の成長を促進すると予想されます。

半導体化学気相成長装置のメーカーは、市場浸透を強化し、さまざまな家庭用、商業用、産業用の最終用途からの変化する技術的需要に対応するために、買収、合併、合弁事業、新製品の発売、地理的拡大など、いくつかの戦略を採用しています。

例えば、2022年9月、オックスフォード・インストゥルメンツは革新的なSiC基板非接触プラズマ研磨ソリューションを発表しました。この最先端技術は、従来の化学的機械的平坦化（CMP）プロセスを凌駕するように設計されており、よりクリーンで乾燥し、コスト効率が高く、歩留まりが高く、環境的に持続可能な代替手段を提供します。Clas-SiCとの協力により、このプロジェクトは、全ウェハ1200V MOSFETデバイスの認定に成功し、大きな進展を遂げました。この成果により、この新しいソリューションと、SiCパワー半導体デバイスに革命をもたらすという自信が強まっています。




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