株式会社グローバルインフォメーション(所在地:神奈川県川崎市、代表者:樋口 荘祐、証券コード:東証スタンダード 4171)は、市場調査レポート「リソグラフィ装置市場の2030年までの予測:技術、プロセスタイプ、コンポーネント、波長、用途、エンドユーザー、地域別の世界分析」(Stratistics Market Research Consulting)の販売を12月9日より開始いたしました。
【 当レポートの詳細目次 】
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リソグラフィ装置の市場規模は、2024年の292億米ドルからCAGR9.57%で成長し、2030年には506億米ドルに達すると予想されています。リソグラフィ装置は、複雑な回路レイアウトをシリコンウェハー上に配置するために半導体製造プロセスで使用される特殊な装置です。この技術は、さまざまな電子機器の動力源となる集積回路やマイクロチップの製造に欠かせないものです。パターン形成において高い精度と解像度を実現するために、この装置では極端紫外線(EUV)リソグラフィやフォトリソグラフィなど、さまざまな方法が用いられています。光源、光学システム、回路設計を特定するマスクは、リソグラフィ装置に不可欠な部品です。技術の進歩に伴い、より小型で効率的な半導体の製造を可能にするリソグラフィ装置の改良は不可欠であり、これが拡大を後押ししています。
IEAの報告書によると、電気自動車の販売台数に占める割合は、2020年の4%超から2022年には1000万台超で14%超に増加しました。
推進要因:半導体需要の増加
半導体需要の増加は、技術革新を促進し生産能力を高めるため、リソグラフィ装置業界に多大な影響を与えます。 民生用電子機器、自動車、通信などの分野が成長する中、メーカーはより小型で効率的な半導体を製造するために高度なリソグラフィ技術を必要としています。 このような需要の高まりにより、EUV(極端紫外線)システムなどの最新鋭のリソグラフィ装置への投資が奨励され、製造能力が向上します。
抑制要因:高い製造コスト
リソグラフィ装置業界における製造コストの高さは、投資を制限し、小規模な生産者にとっては利用を難しくしています。最新の露光システムは高価で、常にメンテナンスや運用が必要であるため、企業は能力の向上や拡大をためらう可能性があります。特に、需要の高まりに対応するために最先端技術への投資ができない企業にとっては、この財政的な障壁がイノベーションや競争力の妨げとなる可能性があります。
市場機会:新興技術の台頭
5G、AI、IoTなどの新興技術は、高度な半導体生産の需要を高めるため、リソグラフィ装置の市場に大きな影響を与えています。これらの技術は、より複雑で小型化された高性能プロセッサを必要とするため、メーカーはナノインプリントリソグラフィや極端紫外線(EUV)リソグラフィなどの先進的なリソグラフィソリューションに投資しています。この傾向は、変化する業界の需要を満たすために技術開発者とリソグラフィ装置プロバイダー間の協力を促すだけでなく、イノベーションを促進します。
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【会社概要】
1995年の創立以来、海外市場調査レポートの販売を通じて企業のグローバル展開を支援しています。世界5カ国に拠点を持ち、提携調査会社200社以上が発行する調査資料約24万点以上をワンストップでご提供。市場情報販売のグローバル・リーディングカンパニーを目指し、企業ならびに社会の発展に寄与すべく、お客様にとって真に価値ある情報をお届けしています。
創立:1995年
所在地:215-0004 神奈川県川崎市麻生区万福寺1-2-3 アーシスビル7F
事業内容:市場調査レポート/年間契約型情報サービスの販売、委託調査の受託、国際会議の代理販売
市場調査レポート/年間契約型情報サービス: (リンク »)
委託調査: (リンク »)
国際会議: (リンク »)
当社は、2020年12月24日に東京証券取引所へ上場いたしました(東証スタンダード市場:4171)。
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リソグラフィ装置の市場規模は、2024年の292億米ドルからCAGR9.57%で成長し、2030年には506億米ドルに達すると予想されています。リソグラフィ装置は、複雑な回路レイアウトをシリコンウェハー上に配置するために半導体製造プロセスで使用される特殊な装置です。この技術は、さまざまな電子機器の動力源となる集積回路やマイクロチップの製造に欠かせないものです。パターン形成において高い精度と解像度を実現するために、この装置では極端紫外線(EUV)リソグラフィやフォトリソグラフィなど、さまざまな方法が用いられています。光源、光学システム、回路設計を特定するマスクは、リソグラフィ装置に不可欠な部品です。技術の進歩に伴い、より小型で効率的な半導体の製造を可能にするリソグラフィ装置の改良は不可欠であり、これが拡大を後押ししています。
IEAの報告書によると、電気自動車の販売台数に占める割合は、2020年の4%超から2022年には1000万台超で14%超に増加しました。
推進要因:半導体需要の増加
半導体需要の増加は、技術革新を促進し生産能力を高めるため、リソグラフィ装置業界に多大な影響を与えます。 民生用電子機器、自動車、通信などの分野が成長する中、メーカーはより小型で効率的な半導体を製造するために高度なリソグラフィ技術を必要としています。 このような需要の高まりにより、EUV(極端紫外線)システムなどの最新鋭のリソグラフィ装置への投資が奨励され、製造能力が向上します。
抑制要因:高い製造コスト
リソグラフィ装置業界における製造コストの高さは、投資を制限し、小規模な生産者にとっては利用を難しくしています。最新の露光システムは高価で、常にメンテナンスや運用が必要であるため、企業は能力の向上や拡大をためらう可能性があります。特に、需要の高まりに対応するために最先端技術への投資ができない企業にとっては、この財政的な障壁がイノベーションや競争力の妨げとなる可能性があります。
市場機会:新興技術の台頭
5G、AI、IoTなどの新興技術は、高度な半導体生産の需要を高めるため、リソグラフィ装置の市場に大きな影響を与えています。これらの技術は、より複雑で小型化された高性能プロセッサを必要とするため、メーカーはナノインプリントリソグラフィや極端紫外線(EUV)リソグラフィなどの先進的なリソグラフィソリューションに投資しています。この傾向は、変化する業界の需要を満たすために技術開発者とリソグラフィ装置プロバイダー間の協力を促すだけでなく、イノベーションを促進します。
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創立:1995年
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当社は、2020年12月24日に東京証券取引所へ上場いたしました(東証スタンダード市場:4171)。
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お問い合わせにつきましては発表元企業までお願いいたします。
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