ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂とは
ArF・KrFフォトレジスト樹脂（Photoresist Resins／Polymers）は、半導体製造のフォトリソグラフィ工程で回路パターンを形成するための感光性樹脂原料である。フォトレジストは光の照射によって化学的性質が変化する材料であり、樹脂のほか、光酸発生剤（PAG）、光活性化合物（PAC）、溶剤、添加剤などで構成される。ArFドライ、ArF液浸、KrFフォトレジスト向け樹脂は、分子構造、分子量、組成、不純物、製造条件によって性能が大きく異なり、顧客ごとの要求に応じた高度な設計が必要となる。
ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の写真
ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の世界市場規模
QYResearch調査チームの最新レポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」によると、ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の世界市場は、2025年に508百万米ドルと推定され、2026年には537百万米ドルに達すると予測されています。その後、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）6.2%で推移し、2032年には771百万米ドルに拡大すると見込まれています。
上記の図表／データは、QYResearchの最新レポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」から引用されている。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂の市場規模と成長性
2024年の世界市場規模は、ArF用樹脂が2億4,538万米ドル、KrF用樹脂が2億648万米ドルであった。2031年にはそれぞれ4億533万米ドル、3億2,511万米ドルに達し、2025～2031年のCAGRは6.75％、5.6％と予測される。
地域別では日本が2024年の3億6,712万米ドルから2031年に4億9,833万米ドル、韓国が2,673万米ドルから7,089万米ドル、中国が731万米ドルから8,261万米ドルへ拡大する見通しである。特に中国はCAGR38.25％、韓国は15.11％と高い成長が期待される。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂の競争構造
主要企業には、丸善石油化学、信越化学工業、東洋合成工業、デュポン、三菱ケミカル、Miwon Commercial、日本曹達、SAMYANG NC Chem、東邦化学工業、群栄化学工業などがある。2024年には上位7社で売上高の約80％を占め、市場集中度が高い。
競争構造は、自社使用を目的とする内製型と、外販を主とする専門材料メーカーに大別される。ArFでは丸善石油化学、信越化学、東洋合成工業など、KrFでは日本曹達、丸善石油化学、東洋合成工業などが主要企業となっている。
AI半導体が促す技術革新と供給体制の強化
2026年4月、富士フイルムはAI半導体向け先端ノードに対応するPFASフリーのネガ型ArF液浸レジストを開発し、顧客評価用サンプルの提供を開始した。また、住友化学は同月、大阪工場に先端フォトレジストの製造技術・品質評価機能を集約する新棟の建設を決定した。10月には東京応化工業も約230億円を投じた新製造棟を完成させ、11月の稼働を予定している。これらは樹脂を含むフォトレジスト材料の高純度化と安定供給が重要性を増していることを示す。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂市場の将来展望
高速・大容量通信、AI、5Gの普及に伴う半導体需要の拡大を背景に、ArF系樹脂は年率約6％の需要成長が期待される。一方、EUVへの移行やPFAS規制への対応により、樹脂メーカーには微細パターン形成能力、環境適合性、顧客別の処方設計が求められる。
今後は既存ArF・KrF製品の販売拡大に加え、EUV対応材料への研究開発投資と顧客認証の獲得が、中長期的な競争優位を左右すると考えられる。
本記事は、QY Research発行のレポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」に基づき、市場動向および競合分析の概要を解説します。
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お問い合わせ先
QY Research株式会社
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日本住所：〒104-0061 東京都中央区銀座6-13-16 銀座Wallビル UCF5階
TEL：050-5893-6232（日本）／0081-5058936232（グローバル）
E-mail：japan@qyresearch.com
会社概要
QYResearch株式会社は、2017年に東京で設立された市場調査会社であり、各種業界に向けた調査・分析サービスを提供しています。主な業務内容には、市場規模分析、業界ポジション評価、フィージビリティスタディ、競争環境分析、事業計画策定支援などが含まれます。さらに、米国、韓国、ドイツ、スイス、ポルトガル、中国、インド、インドネシア、ベトナムをはじめとする世界10カ国に調査ネットワークを構築し、現地視点を活かしたグローバル市場調査レポートを展開しています。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂（Photoresist Resins／Polymers）は、半導体製造のフォトリソグラフィ工程で回路パターンを形成するための感光性樹脂原料である。フォトレジストは光の照射によって化学的性質が変化する材料であり、樹脂のほか、光酸発生剤（PAG）、光活性化合物（PAC）、溶剤、添加剤などで構成される。ArFドライ、ArF液浸、KrFフォトレジスト向け樹脂は、分子構造、分子量、組成、不純物、製造条件によって性能が大きく異なり、顧客ごとの要求に応じた高度な設計が必要となる。
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ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の世界市場規模
QYResearch調査チームの最新レポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」によると、ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂の世界市場は、2025年に508百万米ドルと推定され、2026年には537百万米ドルに達すると予測されています。その後、2026年から2032年にかけて年平均成長率（CAGR）6.2%で推移し、2032年には771百万米ドルに拡大すると見込まれています。
上記の図表／データは、QYResearchの最新レポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」から引用されている。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂の市場規模と成長性
2024年の世界市場規模は、ArF用樹脂が2億4,538万米ドル、KrF用樹脂が2億648万米ドルであった。2031年にはそれぞれ4億533万米ドル、3億2,511万米ドルに達し、2025～2031年のCAGRは6.75％、5.6％と予測される。
地域別では日本が2024年の3億6,712万米ドルから2031年に4億9,833万米ドル、韓国が2,673万米ドルから7,089万米ドル、中国が731万米ドルから8,261万米ドルへ拡大する見通しである。特に中国はCAGR38.25％、韓国は15.11％と高い成長が期待される。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂の競争構造
主要企業には、丸善石油化学、信越化学工業、東洋合成工業、デュポン、三菱ケミカル、Miwon Commercial、日本曹達、SAMYANG NC Chem、東邦化学工業、群栄化学工業などがある。2024年には上位7社で売上高の約80％を占め、市場集中度が高い。
競争構造は、自社使用を目的とする内製型と、外販を主とする専門材料メーカーに大別される。ArFでは丸善石油化学、信越化学、東洋合成工業など、KrFでは日本曹達、丸善石油化学、東洋合成工業などが主要企業となっている。
AI半導体が促す技術革新と供給体制の強化
2026年4月、富士フイルムはAI半導体向け先端ノードに対応するPFASフリーのネガ型ArF液浸レジストを開発し、顧客評価用サンプルの提供を開始した。また、住友化学は同月、大阪工場に先端フォトレジストの製造技術・品質評価機能を集約する新棟の建設を決定した。10月には東京応化工業も約230億円を投じた新製造棟を完成させ、11月の稼働を予定している。これらは樹脂を含むフォトレジスト材料の高純度化と安定供給が重要性を増していることを示す。
ArF・KrFフォトレジスト樹脂市場の将来展望
高速・大容量通信、AI、5Gの普及に伴う半導体需要の拡大を背景に、ArF系樹脂は年率約6％の需要成長が期待される。一方、EUVへの移行やPFAS規制への対応により、樹脂メーカーには微細パターン形成能力、環境適合性、顧客別の処方設計が求められる。
今後は既存ArF・KrF製品の販売拡大に加え、EUV対応材料への研究開発投資と顧客認証の獲得が、中長期的な競争優位を左右すると考えられる。
本記事は、QY Research発行のレポート「ArFおよびKrFフォトレジスト樹脂―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」に基づき、市場動向および競合分析の概要を解説します。
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