ウェーハ洗浄装置の市場規模、2028年に165億米ドル到達予測

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「ウエハ洗浄装置の世界市場：装置タイプ別、用途別、技術別、作動モード別、ウエハサイズ別、地域別-2028年までの予測」（MarketsandMarkets）の販売を10月3日より開始いたしました。

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ウェーハ洗浄装置の市場規模は、2023年の101億米ドルからCAGR10.4%で成長し、2028年には165億米ドルに達すると予測されています。



200mmウェーハサイズは、2番目に高い成長率を占める

直径200mmウェーハには、片面研磨（SSP）と両面研磨（DSP）の2つのバリエーションがあります。これらのウェーハは、メモリ、RFデバイス、LEDなど、さまざまな用途で使用されています。200mmウェーハの市場は、有利な費用対効果によって大きく成長すると予測されており、その需要は、パワーデバイス、IC、LED、MEMS、その他多数の半導体・電子デバイスなど、幅広い用途で拡大し急増する見込みです。

米国の市場シェアの高さ

北米地域では、今後も米国がウェーハ洗浄装置市場で支配的な地位を維持すると予測されています。これは、Intel社（米国）、Global Foundries社（米国）、Maxim Integrated社（米国）といった製造大手が米国内に存在するためです。これらの業界大手は主に、マイクロプロセッサー、MEMS、集積回路（IC）を製造するためのウェハー加工に従事しています。

米国では、ドイツやフランスなどの国への半導体装置の輸出と相まって、地元の業界プレーヤーが普及しており、これが米国市場成長の原動力となっています。米国内のこの分野の競合企業には、Applied Materials、LAM Research、Novellus Systemsなどがあります。これらの企業は一貫して最先端技術の採用を優先し、半導体産業での用途に合わせた革新的で優れた製品の提供を目指しています。

ウェーハ洗浄装置市場における主要プレーヤーには、SCREENホールディングス（日本）、東京エレクトロン（日本）、Applied Materials（米国）、LAM Research Corporation（米国）、芝浦メカトロニクス（日本）、PVA TePLA AG（ドイツ）、Entregris Inc、 (米国）、SEMES（米国）、Modutek.com（米国）、Veeco Instruments Inc.（米国）、東邦テクノロジー（日本）、ULTRON SYSTEMS, INC.（米国）、Akrion Technologies（米国）、Axus Technology（米国）、芝浦メカトロニクス（日本）などが挙げられます。




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