フォトリソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、動向および成長分析レポート2026-2034年

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「 フォトリソグラフィ装置の世界市場規模、シェア、動向および成長分析レポート2026-2034年 」（Value Market Research）の販売を7月6日より開始しました。グローバルインフォメーションはValue Market Researchの日本における正規代理店です。

世界のフォトリソグラフィ装置市場規模は、2025年の196億米ドルから2034年には452億4,000万米ドルに達すると予測されており、2026年から2034年にかけてCAGR9.74％で成長する見込みです。半導体製造の複雑さと規模が拡大し続ける中、この市場は力強い成長を遂げています。フォトリソグラフィ装置は、シリコンウエハー上に集積回路を精密に形成することを可能にする、チップ製造における重要な構成要素です。より小型で高速、かつエネルギー効率の高い電子機器への需要が高まる中、チップメーカー各社は、極端紫外線（EUV）システムなどの先進的なリソグラフィ技術に多額の投資を行っています。民生用電子機器、データセンター、人工知能、およびハイパフォーマンスコンピューティングの普及が、半導体デバイスに対する持続的な需要を牽引しており、これが最先端のフォトリソグラフィソリューションへの需要をさらに高めています。さらに、国内の半導体製造能力を強化するための政府主導の取り組みも、製造施設への投資拡大に寄与しています。

主な成長要因としては、半導体技術ノードの急速な進化や、多岐にわたる産業における高度なチップへの需要の高まりが挙げられます。5nm未満、さらにはそれより微細なノードへの移行には、極めて高い精度を実現できる高度に洗練されたリソグラフィ装置が必要となります。5G、IoT（モノのインターネット）、自律システムなどの技術の拡大は、チップ需要をさらに加速させています。さらに、電気自動車や再生可能エネルギーシステムの普及が進むにつれ、パワーエレクトロニクス分野における半導体の使用量も増加しています。光学、材料、プロセス制御における継続的なイノベーションにより、フォトリソグラフィ装置の性能と効率が向上しており、現代のチップ製造において不可欠なものとなっています。

この市場の将来性は依然として極めて有望であり、継続的な進歩が半導体生産にさらなる変革をもたらすと予想されます。高開口数システムを含む次世代リソグラフィ技術の開発により、さらなる微細化と性能向上が可能になるでしょう。装置メーカーと半導体企業との戦略的提携がイノベーションを推進し、導入を加速させることになります。新興市場も半導体製造に投資しており、新たな成長機会を生み出しています。デジタルトランスフォーメーションが業界全体で拡大し続ける中、フォトリソグラフィ装置市場は今後も技術進歩の礎であり続けるでしょう。