Beneqは大量生産のための業界向けALDで大きくリード

Beneqは大量生産のための業界向けALDで大きくリード

AsiaNet 65164（0891）

【エスポー（フィンランド）2016年7月20日PR Newswire＝共同通信JBN】
Beneq R11（TM）とBeneq T2Sの新製品がALD2016で発表される

ALD装置および薄膜フィルムコーティングサービスの有力サプライヤーであるBeneqは20日、高度なALDアプリケーションの高容量で低プロセスコストを必要とする業界顧客向けに2つの新しい薄膜フィルム装置ソリューションを発表した。新製品はALD業界におけるコーティングスピードの基準を大幅に変革する。

▽Beneq R11（TM）－超高速・高精度空間的ALDコーティング
Beneq R11は、Beneqが業界使用のために提供する広範な大規模処理能力の空間ALDソリューションの1つに加わった最新のソリューションである。Beneq R11は、業界アプリケーションのウエハーの高性能ALDにとって最適なソリューションを提供する。スピード、コスト、低いプロセス温度、可能な限り高いフィルム品質が最重要であるならば最適の装置となる。

Beneq R11を使用すれば、大量生産でPEALD（原子層レベル成膜）が初めて使用できる。このシステムはMEMS、LED、OLED、太陽光発電、大電力半導体、センサーなど向けのバリアー、インシュレーション、耐食アプリケーションに役立つ。

▽Beneq T2S（TM）－自動化バッチ・ウエハー装置
Beneq T2SはBeneqのウエハーベース装置ポートフォリオに加わる最新装置である。Beneq T2Sは高容量バッチ・プロセッシングと標準的なカセットツーカセット・オートメーションのユニークな組み合わせを提供する。Beneq T2SはSEMI S2安全要件と少ない粒子数などの半導体要件を満たすように専用設計されている。

Beneq T2SはMEMS、LED、OLED、インクジェット・プリンターヘッドなど、さまざまなウエハーベース・アプリケーションの大量生産に最適である。Beneq T2Sの熱バッチALDプロセスは、誘電体、伝導体、バリアー、表面安定化処理目的のために使用する酸化および窒化処理に最適である。

▽アイルランドで開催されるALD2016で正式発表される新製品
Beneq R11とBeneq T2Sの新製品は、アイルランドのダブリンで来週開催される16th International Conference on Atomic Layer Depositionで正式に発表される。

Beneq（R）はALD装置および薄膜フィルムコーティングサービスの有力サプライヤーであり、ALDベースの薄膜フィルム・エレクトロルミネセント・ディスプレーの世界一流メーカーである。

Beneq薄膜フィルム・ソリューションは、エレクトロニクス、光学、感光材料の性能および耐久性を向上させるとともに、湿度、腐食、変色を防ぐ。

Beneqの堅ろうで透明、かつカスタム化されたLuminq（R）ディスプレーは極限状態で広範なアプリケーションで利用されている。完全透明なLumineq TASEL（R）ディスプレーは、優れた信頼性と独自の透明な視認性体験を一体化している。

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▽問い合わせ先
Matias Impivaara
Head of Marketing and Communications
+358-9-7599-530

ソース：Beneq