開催場所： 東京
開催日： 2010-06-02
申込締切日： 2010-6-1
FEMAP / NX Nastran Conference 2010
～進化するProfessional CAE～
ものづくりプロセスでCAEの適用範囲が広がり、"Designer CAE" （設計者によるCAEの活用）が注目を集めています。活用が多彩になる中で、CAE専任者が行う高品質な"Professional CAE"の重要度もますます高まっているのではないでしょうか。モデルデータの多様化やマルチフィジックスへの対応などを、より素早く、より低コストで…より進化した解析環境の構築が求められています。
Professional CAEの進化のために、FEMAP / NX Nastranを日頃お使いいただいているユーザ様から「こんな風に使っている」「こんな使い方もある」等、生の声をご紹介いただくイベントを企画しました。
「このソルバをもっとうまく使うには？」「もっと効率的なFEAモデルの作成方法は?」等々、FEMAPユーザはもちろん、ユーザでなくても役立つ「CAE活用のヒント」も盛り沢山の予定です。協賛各社からも先進のソリューションを紹介します。奮ってご参加ください。（プログラムの詳細は順次更新します。お楽しみに！）
【セミナー概要】
－FEMAP / NX Nastranユーザ様による事例セッション
－協賛各社によるCAE最新情報
－シーメンスPLMソフトウェアから、FEMAP、NX Nastranの開発最新動向の紹介
【FEMAP / NX Nastran Conference 2010】
開催日時
2010年 6月 2日（水） 9:30 ～ 17:00
開催場所
東京ステーションコンファレンス 503（B+C+D）室 [MAP]
東京都千代田区丸の内一丁目7番12号 サピアタワー5階
アジェンダ
08:45 : 受付開始
09:30-09:40 : 開会ご挨拶
09:40-10:45 : FEMAP + NX Nastranの最新情報および開発動向
10:45-11:30 : シーメンスPLMソフトウェア日本法人からのメッセージ
11:30-12:00 : パートナーセッション#1
12:00-13:00 : 昼食（会場にてご昼食をご用意しております）
13:00-14:30 : ユーザ様事例発表
14:30-15:00 : パートナーセッション#2
15:00-15:20 : Coffee Break
15:20-16:50 : ユーザ様事例発表
17:00 : 閉会
対象
設計者CAEより一歩進んだCAEをご検討中の方
FEMAP / NX Nastranユーザ様
300節点版でFEMAPを試用中の方
参加費 :無料
協賛 :
株式会社エヌ・エス・ティ
株式会社計算力学研究センター
インターメッシュジャパン株式会社
株式会社CAEソリューションズ
