マイクロニック、大面積フォトマスク向け新型レーザー描画装置「FPS5100」

ニューズフロント 2006年06月16日 17時56分

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 マイクロニックジャパンは6月16日、大面積フォトマスク向けの新型レーザー描画装置「FPS5100」を発表した。ただし、価格や提供開始時期など、詳細については明らかにしていない。

 FPS5100は、「大面積ディスプレイ用フォトマスク製造において業界標準となっている」(マイクロニック)描画機「LRSライン」をベースとする新製品。マイクロニックでは、「先進の半導体パッケージングや単純マトリックス駆動型TN/STN液晶ディスプレイなど、大面積アプリケーション用フォトマスクの大量生産に適している」と説明する。

 スループットは毎分1万2000平方mmに達し、メイン描画グリッドは最小0.4ミクロンまで対応可能。「最小の所有コストを提供するとともに、ターンアラウンドタイムを短縮し、製造計画の策定を容易にする」(マイクロニック)

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