インテル、45nmプロセスのチップ量産施設を稼働開始へ

文:Stephen Shankland(CNET News.com)
翻訳校正:ラテックス・インターナショナル 2007年09月12日 15時27分

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 サンフランシスコ発--Intelは、45nm製造プロセスを使用した同社初のチップ量産施設を45日後にオープンさせることを予定している。

 Fab 32と呼ばれるこの施設は、アリゾナ州チャンドラーに建造された新施設だとIntelの広報担当者であるNick Knupffer氏は当地で開催中のVMworldカンファレンスでのインタビューで語った。Intelのほとんどの現行チップは65nmの回路エレメントが使用できるプロセスによって製造されているが、新しい45nmプロセスを使用すると同じ面積のシリコンウエハにより多くの回路を集積できる。

 Intelは現在45nmのプロセッサをオレゴン州のD1D施設で製造しているが、Fab 32が量産施設となる。

 IntelのライバルであるAdvanced Micro Devices(AMD)はプロセッサの製造を65nmプロセスへ移行し始めたばかりだ。

この記事は海外CNET Networks発のニュースを編集部が日本向けに編集したものです。海外CNET Networksの記事へ

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